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第116章 对光源系统的改进

小说:新科学时代作者:康泓字数:2208更新时间 : 2020-09-13 22:53:03
  即便郭一这样说了,林欣还是久久没有平静下来。

  这概念,就算是幻想,大概也没人这么想过吧?

  人工制造类蛋白无机物大分子,还要有蛋白质的功能和特性,进而形成“无机物仿造人”这种无机生物存在的物质基础?

  这就是天才的脑回路吗?

  不管能不能成,光是这想法本身,那就是一件壮举!

  林欣想了许久,只觉得郭一的这想法实在是太疯狂,再想下去,自己怕不是要疯,于是问道:

  “那个,什么,系统改造的事情怎么样了?”

  “哦,现在还没完,比我预想的做的多了一些,而且光的邻近效应的修正算法比我的要复杂的多,耽误了一些功夫。”

  郭一说道:“不过没关系,我已经联系徐阳,把一些简单的改造设计好基础框架之后交给他们去实现了。我这边马上就完工,看徐阳那边的进度吧,最慢预计后天也就能结束。”

  这些天,林欣闲着没事儿的时候,也了解了一些光刻的常识。

  知道在超大规模集成电路的工艺中,193nm光刻波长的衍射、干涉等光学临近效应会形成致命问题。

  她虽然不知道这个修正算法的难度有多大,但想来也会简单。

  经过这些日子的了解,林欣可是知道,除了光刻机镜头之外,解决光衍射、干涉等光学临近效应的问题,也是光刻机技术突破的关键因素。

  如果光学临近效应这个问题能够解决,28nm甚至7nm级别的光刻机技术就又能向前一步了!

  国内厂商,苦苦研究十几年而不得的技术,郭一说改进就改进了?

  “其实也没有那么难,只要细致观察,仔细推理,这其中的修正方案也并不难实现。”

  郭一说道:“无非是改进了一下修正模型,使得建立的光刻模型更加精确、计算速度更快了一点,仅此而已。”

  “模型更精确,速度反而更快了,还说仅此而已?”林欣嘟囔道:“真是一个非人类。”

  “哈哈!”郭一可是注意到了,林欣说这话的时候,那可是满脸的骄傲神色。

  ……

  “常工,这升级方案看起来有一些怪异啊,我怎么有些看不懂?”

  郭一领人改造光刻机系统的时候,A1厂的升级改造也在稳步就班的进行着,何兴也是一边调整着设备的参数,一边跟身旁的常凯聊着。

  “怎么看不懂啊?我看这数据很清晰,该怎么做也很明了啊,何工,你有哪儿看不懂?”常凯说道。

  “常工,我不是说实施方案看不懂。”何兴说道:

  “我是说,这样升级原理,我完全没搞明白。这样的升级就能实现7nm的生产吗?

  经过我的测算,这样改造之后,工艺制程不但难以升级,不降级就不错了。”

  “成与不成的,等过几天就知道了。”

  常凯其实也早就发现了,这样的改变,根本不足以改进生产工艺,只不过他想的比何兴更加深入了一些,其中太过复杂,不是一句话两句话能说清楚的。

  不仅何兴和常凯,几乎所有参与这次升级改造工作的工程师都发现了这样的情况,甚至还有人跟安城跟郭一确认过,是不是方案有什么问题。

  但郭一确认,就按这个方案实施,其他的让他们不用管。

  在各位工程师的眼里,这样的改造比起14nm的工艺甚至有一些倒退,但是,工作既然是这样安排的,郭一既然如此的有信心,那就折腾一番也无妨。

  实在不行,也就是耽误几天生产的事儿,大不了之后再改回来就是了,也不费多大的功夫。

  如果不是郭一露了一手在先,人还没到就把28nm的工艺升级成14nm了,那今天再让这些工程们做今天这样的事情,所有人都会质疑,甚至是会反对的。

  但现在,他们虽然都发现了端倪,但经过郭一确认后,他们都没再吱声。

  老老实实的按照郭一的方案改造着,一边改造,还一边在思考,这其中究竟有没有什么特别的用意?我究竟有没有哪个地方疏忽还是漏掉了?

  这就是权威的作用,只露了一手的郭一,现在在这些工程师眼里,那已经成了权威。

  废话,全世界没人能做到的事情,人家没露面就做到了,这还不是权威,那什么才是权威?

  何兴瞅了瞅常凯,心里有些不安:难道这家伙已经看懂这些改造的端倪了?他怎么就这么淡定?这么从容?

  芯片生产工艺本身就是一个极为复杂的过程,牵一发而动全身,考虑不周的情况实在是不罕见。

  确实会存在某个步骤误差比较大,却是故意而为的情况。

  其目的就是为了冲抵另一个过程造成的误差,这是一种冲抵矫正方案。

  完成了自己的工作之后,何兴又仔细的研究了一遍整体的方案,还是没有发现任何的端倪。

  在现有的光刻机条件下,这样的改造确实提升不了生产工艺和良率,反倒会增加曝光后图形的偏差。

  “等等!现有的光刻机条件?”何兴突然意识到了什么:“郭工现在可是不在啊,他干什么去了?莫非……”

  一个大胆的念头从何兴的脑海里冒了出来:那就是升级光刻机!

  升级硬件当然是不可能的,但升级软件……

  “光学临近效应引起的图像偏差问题!”何兴立即意识到问题的关键所在。

  他一直在A1厂,这台光刻机他可以说是了如指掌,光刻机的控制程序确实有可以升级的空间,他们一直也跟厂家有反馈。

  但,那都是小打小闹似的升级。

  “如果,彻底改造控制程序,进一步修正193nm极限工艺下的邻近效应导致的曝光图像偏差问题……”

  何兴脑洞大开,有了这样的想法,即便知道没什么可能,他还是立即对这个方案进行了计算验证。

  不计算还好,这一计算,何兴是直接被惊到了——郭一的改造方案竟然真的是照着这个思路再走!

  换言之,郭一的改造方案就是这个!

  “他竟然真的能够进一步改进光学邻近效应引起的图像偏差?”

  看着最终的计算的数据竟然如此吻合,何兴也是直接瘫在了椅子上:

  “他也不是生产光刻机的专家啊,这可能吗这?这要让魔都微电子知道了,他们不得疯掉啊!这哪是改进生产工艺啊,这直接是改造光刻机了都!”

  即便何兴不是光刻机的专业人士,他也知道光刻机最大的两个核心部件,一个就是镜头,另一个就是光源。

  光源最核心的问题,其实就是修正这个光学临近效应引起的图像偏差。

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